新着情報
- プラズマ量子プロセス
- お知らせ
第24回プラズマ量子プロセスユニットセミナー “極端紫外光による光電離・光解離アブレーションとその応用” (7月10日 13:15-)
核融合科学研究所(NIFS)プラズマ量子プロセス(PQP)ユニットでは、ユニットの研究活動を広く発信していくために、セミナーを開催しております。今回は、講師として 大阪大学レーザー科学研究所(プラズマ量子プロセスユニット)の 田中のぞみ博士をお招きし、「極端紫外光による光電離・光解離アブレーションとその応用」と題してご講演いただきます。
【実施要項】
題目:極端紫外光による光電離・光解離アブレーションとその応用
講師:田中のぞみ 博士(大阪大学レーザー研/プラズマ量子プロセスユニット)
日時:2026年7月10日(金)
13:15 (ハイブリッド開催)
会場:核融合科学研究所 研究1期棟5階501号室 および Zoom
*Zoomアドレスについては、お問い合わせください。
【概要】
レーザー駆動プラズマから放射される極端紫外(EUV/XUV)光は、変換効率の高さと出力の大きさ、制御性などの利点によりEUVリソグラフィ露光装置に採用され、半導体製造に利用されている。10nm帯のXUV光は光子エネルギーが100eVと非常に高く、物質への光吸収は逆制動放射ではなく光電離や光解離が主となる。原子過程吸収に起因する材料選択性、高い吸収係数、高密度低温プラズマなどの特徴を備えるXUV光による物質アブレーションは、材料の直接加工など、リソグラフィ技術を超えた応用が期待される。更に近年EUV光源内においても、帯域外放射が光源プラズマ、光学部品、壁材料等に与える影響が注目されてきている。しかしこれまで放電光源、レーザープラズマ光源、XFEL等を用いた基礎および応用研究が行われているが、光電離プラズマの初期過程については正確な記述がなされていない。本セミナーでは大阪大学レーザー研におけるXUV応用研究とEUVリソグラフィ周辺技術研究の他、国内外の動向を紹介し、核融合科学研究所における研究活動の提案を行う。
【連絡先】
村上泉(murakami.izumi (at) nifs.ac.jp)
※ (at) を@に直してください。
